Kirish
Plazma boshq manbai payvandlash issiqlik manbai sifatida yuqori energiyali zichlikdagi plazma yoyi nuridan foydalanadigan termoyadroviy payvandlash usulini nazarda tutadi. Plazma boshq manbai konsentrlangan energiya, yuqori mahsuldorlik, tez payvandlash tezligi, past kuchlanish va deformatsiya, barqaror yoy xususiyatlariga ega va yupqa plitalar va quti materiallarini payvandlash uchun javob beradi. Bu, ayniqsa, turli xil o'tga chidamli, oson oksidlanadigan va issiqlikka sezgir metall materiallarni (masalan, volfram, molibden, mis, nikel, titanium va boshqalar) payvandlash uchun javob beradi.
Gaz yoy bilan isitiladi va dissotsilanadi. Suv bilan sovutilgan ko'krakdan yuqori tezlikda o'tganda, u siqilib, plazma yoyi hosil qilish uchun energiya zichligi va dissotsiatsiya darajasini oshiradi. Uning barqarorligi, issiqlik hosil bo'lishi va harorati oddiy yoylarga qaraganda yuqori, shuning uchun u katta penetratsiya va payvandlash tezligiga ega. Plazma yoyini hosil qiluvchi gaz va uning atrofidagi himoya gaz odatda sof argondan foydalanadi. Turli xil ish qismlarining moddiy xususiyatlariga ko'ra, geliy, azot, argon yoki ikkalasining aralashmasi ham ishlatiladi.
Prinsip
Plazma yoyni kesish metall va metall bo'lmagan materiallar uchun tez-tez ishlatiladigan kesish jarayonidir. Kesiladigan materialni isitish va eritish uchun yuqori tezlikdagi, yuqori haroratli va yuqori energiyali plazma havo oqimidan foydalanadi va plazma havo oqimi nuri kirguncha eritilgan materialni uzoqlashtirish uchun ichki yoki tashqi yuqori tezlikdagi havo oqimi yoki suv oqimidan foydalanadi. kesma hosil qilish uchun orqaga.
Xinfa payvandlash uskunalari yuqori sifat va arzon narx xususiyatlariga ega. Tafsilotlar uchun quyidagi manzilga tashrif buyuring:Payvandlash va kesish ishlab chiqaruvchilari - Xitoyning payvandlash va kesish fabrikasi va yetkazib beruvchilari (xinfatools.com)
Xususiyatlari
1. Mikro nurli plazmali payvandlash folga va yupqa plitalarni payvandlashi mumkin.
2. U pinhole effektiga ega va bir tomonlama payvandlash va ikki tomonlama erkin shakllanishga erishish mumkin.
3. Plazma yoyi yuqori energiya zichligi, yuqori boshq ustuni harorati va kuchli penetratsiya qobiliyatiga ega. 10-12 mm qalinlikdagi po'latni burmalarsiz erishish mumkin. Tez payvandlash tezligi, yuqori mahsuldorlik va kichik kuchlanish deformatsiyasi bilan bir vaqtning o'zida ikkala tomonni payvand qilishi mumkin.
4. Uskunalar nisbatan murakkab bo'lib, yuqori gaz sarfi, yig'ish va ishlov beriladigan qismning tozaligi orasidagi bo'shliqqa qat'iy talablar qo'yiladi va faqat ichki payvandlash uchun javob beradi.
Quvvatlantirish manbai
Plazma boshq manbaidan foydalanilganda, odatda, to'g'ridan-to'g'ri oqim va droop xarakterli quvvat manbalari ishlatiladi. Maxsus mash'ala tartibi va alohida plazma va himoya gaz oqimlaridan olingan noyob operatsion xususiyatlari tufayli plazma konsoliga oddiy TIG quvvat manbai qo'shilishi mumkin va maxsus qurilgan plazma tizimi ham ishlatilishi mumkin. AC sinus to'lqinidan foydalanganda plazma yoyini barqarorlashtirish oson emas. Elektrod va ish qismi orasidagi masofa uzoq bo'lsa va plazma siqilgan bo'lsa, plazma yoyi ishlashi qiyin bo'ladi va musbat yarim tsiklda haddan tashqari qizib ketgan elektrod o'tkazgich uchini sharsimon qiladi, bu esa elektrodning barqarorligiga xalaqit beradi. yoy.
Maxsus DC kommutatsiya quvvat manbai foydalanish mumkin. Elektrod musbat qutbining davomiyligini kamaytirish uchun to'lqin shaklining muvozanatini sozlash orqali elektrod o'tkir o'tkazuvchan uchi shaklini saqlab turish va barqaror yoy hosil qilish uchun to'liq sovutiladi.
Yuborilgan vaqt: 2024 yil 12-sentabr
